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经营范围
发明名称
Method for forming photoresist pattern having an vertical profile plane
摘要
申请公布号
KR100587066(B1)
申请公布日期
2006.06.07
申请号
KR20030094082
申请日期
2003.12.19
申请人
发明人
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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