发明名称 电光学装置的制造方法及图像形成装置
摘要 本发明提供可以避免微透镜的形状和其形成位置发生偏差、使由发光元件发出的光的取出效率提高的电光学装置的制造方法和图像形成装置。其解决方法是,在元件基板(30)的发光元件形成面上形成像素(34)(步骤S11),在该像素(34)上形成粘接层(La1),将支持基板(38)粘贴在元件基板(30)上(步骤S12)。接着,磨削具备像素(34)及支持基板(38)的元件基板(30)的磨削面而形成粘贴面(步骤S13),在薄片基板(39)的透镜形成面(39a)上形成微透镜(40)(步骤S22)。而且,使具备微透镜(40)的薄片基板(39)粘贴在元件基板(30)的粘贴面上。
申请公布号 CN1784095A 申请公布日期 2006.06.07
申请号 CN200510125466.5 申请日期 2005.11.17
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 高桥克弘
分类号 H05B33/10(2006.01);H05B33/02(2006.01);H05B33/14(2006.01);B41J2/44(2006.01);B41J2/455(2006.01);G03G15/04(2006.01) 主分类号 H05B33/10(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1.一种电光学装置的制造方法,在透明基板的发光元件形成面上形成发光元件,以在上述透明基板上配设使由上述发光元件发出的光射出的微透镜,其特征在于:在上述透明基板的上述发光元件形成面侧粘贴支持基板后,在上述发光元件形成面侧上切削与上述发光元件形成面相对向的上述透明基板的面而形成粘贴面,在上述粘贴面上粘贴与形成上述微透镜的透镜形成面相对向的薄片基板的一个侧面上,借助于上述薄片基板使上述微透镜配设在上述透明基板上。
地址 日本东京