| 发明名称 | 磁记录介质及其制造方法、以及用于磁记录介质的中间体 | ||
| 摘要 | 提供一种磁记录介质，在该磁记录介质中，以预定凹凸图案将磁记录层5设置在基片1A上，并用非磁性材料填充凹凸图案中的凹部分，在凹凸图案的凸部分上形成非磁性层16，所述非磁性层16由非磁性材料中的位于凹部分底面的非磁性材料形成，同时，使凸部分和凹部分的表面基本平坦化，并且所述非磁性层16的厚度等于或小于1nm。 | ||
| 申请公布号 | CN1783229A | 申请公布日期 | 2006.06.07 |
| 申请号 | CN200510104938.9 | 申请日期 | 2005.09.22 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 高井充;服部一博;诹访孝裕;大川秀一 |
| 分类号 | G11B5/82(2006.01);G11B5/62(2006.01);G11B5/84(2006.01) | 主分类号 | G11B5/82(2006.01) |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 何立波;张天舒 |
| 主权项 | 1.一种磁记录介质，包括：基片；以预定凹凸图案形成在所述基片上的磁记录层；填充在所述凹凸图案的凹部分中的非磁性材料；由位于凹部分底面的所述非磁性材料形成的非磁性层，其形成在所述凹凸图案的凸部分上，同时，使凸部分和凹部分的表面基本平坦化，其中，所述非磁性层的厚度为小于或等于1nm。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||