发明名称 | 形成保护膜用固化性组合物、该膜的形成方法和该膜 | ||
摘要 | 本发明提供一种形成保护膜用的固化性组合物,同时提供该保护膜及膜形成方法。该组合物含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含有环氧基的不饱和化合物和上述化合物以外的其它烃烯系不饱和化合物的共聚物,和上述共聚物以外的环氧树脂以及在热或放射线作用下产生酸的化合物。并且,上述方法是在不超过180℃的温度条件下,对在树脂基板上形成的上述固化性组合物涂膜进行热处理和/或光处理。 | ||
申请公布号 | CN1258573C | 申请公布日期 | 2006.06.07 |
申请号 | CN02147050.2 | 申请日期 | 2002.10.25 |
申请人 | 捷时雅株式会社 | 发明人 | 马场厚;高鸟正重;丹羽一明 |
分类号 | C09D163/00(2006.01) | 主分类号 | C09D163/00(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 钟守期;庞立志 |
主权项 | 1.固化性组合物,其特征在于含有(A)下述(a1)~(a3)的共聚物100重量份:(a1)不饱和羧酸和/或不饱和数酸酐、(a2)含有环氧基的不饱和化合物、(a3)前述单体(a1)和(a2)以外的烯烃系不饱和化合物;其中,上述共聚物(A)中含有来自上述化合物(a1)的聚合单元5~40重量%,来自上述化合物(a2)的聚合单元10~70重量%,以及来自上述化合物(a3)的聚合单元10~70重量%;(B)除(A)成分以外的环氧树脂1~200重量份;和(C)在热或放射线作用下产生酸的化合物0.01~20重量份,并且此固化性组合物可用于在树脂基板上形成保护膜。 | ||
地址 | 日本东京都 |