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发明名称 process for producing a Si-based alloy sputtering target
摘要
申请公布号 EP1447458(B1) 申请公布日期 2006.06.07
申请号 EP20030025186 申请日期 2003.11.04
申请人 W.C. HERAEUS GMBH 发明人 HEINDEL, JOSEF;WEIGERT, MARTIN, DR.;KONIETZKA, UWE
分类号 B22D18/04;C23C14/34;B22D15/02;B22D23/06;B22D27/15;C22C28/00;H01J37/34 主分类号 B22D18/04
代理机构 代理人
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