| 发明名称 | 在光学器件中使用的含苯并三唑的新聚合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及含苯并三唑重复单元的聚合物。含本发明聚合物的光学器件在色纯度、器件效率和/或使用寿命上可以表现出显著的优点。此外，所述聚合物具有良好的溶解度特性以及相对高的玻璃转化温度，这有助于将它们制备成相对薄的、热稳定的和相对没有缺陷的涂层和薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1784445A | 申请公布日期 | 2006.06.07 |
| 申请号 | CN200480012058.2 | 申请日期 | 2004.04.26 |
| 申请人 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 发明人 | J·罗杰斯;M·R·克雷格;T·谢菲尔 |
| 分类号 | C08G61/12(2006.01) | 主分类号 | C08G61/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘维升;赵苏林 |
| 主权项 | 1.包含下式重复单元的聚合物<img file="A2004800120580002C1.GIF" wi="1002" he="466" /><img file="A2004800120580002C2.GIF" wi="353" he="456" />或<img file="A2004800120580002C3.GIF" wi="328" he="688" />其中x和y相互独立地是0或1，X<sup>1</sup>和X<sup>2</sup>互相独立地是二价连接基，Ar<sup>1</sup>、Ar<sup>2</sup>、Ar<sup>3</sup>、Ar<sup>4</sup>、Ar<sup>5</sup>、Ar<sup>6</sup>、Ar<sup>7</sup>和Ar<sup>8</sup>互相独立地是可以任选被取代的芳基或杂芳基，尤其是可以任选被取代的C<sub>6</sub>-C<sub>30</sub>芳基或C<sub>2</sub>-C<sub>26</sub>杂芳基。 | ||
| 地址 | 瑞士巴塞尔 | ||