腐铜液中铜浓度的控制方法和设备

摘要

本发明涉及一种腐铜液中铜浓度的控制方法和设备，控制方法包括：对腐铜液进行适当的预处理如温度调节、浊度控制、氧化还原电位调节、pH调节等，然后将其置于一个阴阳极区被一种膜隔离物隔离的膜－电沉积装置中，腐铜液中的铜离子会透过膜隔离物而迁移至阴极上并以金属铜或不溶性铜化合物的形式沉积出来；与之相关的设备包括：腐铜液预处理设备如砂滤及微滤等去除悬浮物设备、温控设备、氧化还原电位调节设备、pH调节设备；以及铜分离设备如直流电源、阴阳极区被一种膜隔离物隔离的膜－电沉积设备等。经过这样的处理后可使腐铜液中的铜浓度控制在0.5－160g/L(克/升)的范围内，从而便于其循环使用。

主权项

1.一种控制腐铜液中铜浓度的方法，其特征是包括以下步骤：(1)对腐铜液进行适当的预处理如调节温度、浊度、氧化还原电位、pH等物理化学参数；(2)将经过了预处理的腐铜液置于一个阴阳极区被一种膜隔离物隔离的膜-电沉积装置中，使腐铜液中的铜离子透过膜隔离物而迁移至阴极上并以金属铜或不溶性铜化合物的形式沉积出来；使腐铜液中残余的铜浓度控制在0.5-160g/L(克/升)的范围内。