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发明名称
用于藉由原子层沈积以沈积铜薄膜之铜(II)错合物
摘要
本发明系关于新颖1,3–二亚胺及1,3–二亚胺铜错合物,及1,3–二亚胺铜错合物在一原子层沉积法中用于在基材上、或在多孔固体内或多孔固体上沉积铜之用途。
申请公布号
TW200617198
申请公布日期
2006.06.01
申请号
TW094126061
申请日期
2005.08.01
申请人
杜邦股份有限公司
发明人
艾力克山德 查克 布雷里;杰弗瑞 史考特 汤普森;朴康浩
分类号
C23C16/18
主分类号
C23C16/18
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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