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减少低介电常数介电层之介电常数的方法
摘要
一种减少低介电常数介电层之介电常数的方法。先以气体携带液体状之前趋物的蒸汽进入可进行化学气相沈积反应之反应区域中,然后活化上述之前趋物与气体以进行化学气相沈积反应,此化学气相沈积反应在位于反应区域中之基底上沈积具有低介电常数之介电层。上述之气体可为一氧化碳、二氧化碳、氮气或一氧化二氮。
申请公布号
TW200618051
申请公布日期
2006.06.01
申请号
TW094135381
申请日期
2005.10.11
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
柯忠祁;黎丽萍;李连忠;章勋明
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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