| 摘要 |
本发明系关于一种固态成像装置，其具有一高感光度及一形成小型化像素之结构；且系关于一种制造该固态成像装置之方法，在该固态成像装置中介面稳定、光谱特性优良且该固态成像装置可以高良品率来制造。该固态成像装置包括至少一形成有一光感应器部分之矽层及一形成于该矽层之前表面侧上的布线层，且其中使光L自与该矽层之前表面侧相对之后表面侧进入，且矽层4之厚度为10 μm或更小。并且，制造该固态成像装置之方法至少包括以下步骤：在一叠层基板之矽层中形成一光感应器部分之半导体区域，在该叠层基板中将一矽基板、一中间层及一矽层层叠；将一第一支撑基板贴合于该矽层上；移除该矽基板及该中间层；其后于该矽层上形成一布线部分；将一第二支撑基板贴合于该布线部分之上，并移除该第一支撑基板以暴露出该矽层。 |
