溅镀靶、溅镀靶-支持板组件、以及成膜装置

摘要

一种溅镀靶，系形成有溅蚀部及非溅蚀部之板状靶，其特征在于，其表面积，超过当假定靶为平面时之表面积的100％、未满其125％。一种溅镀靶，系形成有溅蚀部及非溅蚀部之板状靶，其特征在于，靶表面区域中具备1或复数个凹部，且其表面积超过当假定靶为平面时之表面积的100％、未满其125％。当自我溅镀或高功率溅镀化时，在靶之使用寿命中，可将靶电路之电气变动抑制成极小，藉此，可使用电容量小之廉价的电源装置。