蚀刻溶液以及移除低介电常数介电层的方法

摘要

一种蚀刻溶液，用以蚀刻基底上的低K介电层。此溶液包括有效比例的氧化剂以氧化一低K介电层以及一有效比例的氧化物蚀刻剂以移除氧化物。使用这样的蚀刻溶液可轻易藉由一单阶段处理制程移除一低K介电层。