用于清洁半导体基材之方法及设备

摘要

根据本发明一态样，系提供用于清洁一半导体基材之一方法与设备。该方法包括有支撑一半导体基材(该半导体基材具有一表面)与分配一半导体基材处理液体之量至该半导体基材之表面上，该半导体基材处理液体之量使得实质上没有该半导体基材处理液体流出该半导体基材之表面。该半导体基材处理液体形成矗立在该半导体基材表面上之一滩液。当该半导体基材处理液体位于该半导体基材表面上时该半导体基材系被旋转，使得在旋转期间实质上该半导体基材处理液体之所有量系留置于该半导体基材之表面上。