发明名称 透明硬涂薄膜
摘要 于透明高分子薄膜之至少一面设置透明硬涂层所构成之透明硬涂薄膜中,令透明硬涂层至少由电离放射线硬化性有机无机高混合硬涂剂与平均粒径为1~10μm之无机粒子所形成。有机无机高混合硬涂剂含有反应性矽石为佳。此类构成之本发明的透明硬涂薄膜为防眩性和解像性之平衡良好,且兼具表面硬度等所代表的硬涂性。
申请公布号 TWI255771 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW092105372 申请日期 2003.03.12
申请人 木本股份有限公司 发明人 原田正裕;斋藤正登;小山益生;木村刚久
分类号 B32B27/20 主分类号 B32B27/20
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种透明硬涂薄膜,其特征为于透明高分子薄膜 之至少一面设置透明硬涂层,该透明硬涂层为至少 由电离放射线硬化性有机无机高混合硬涂剂与平 均粒径为1~10m之无机粒子所形成。 2.如申请专利范围第1项之透明硬涂薄膜,其中该电 离放射线硬化性有机无机高混合硬涂剂为至少含 有表面导入具有光聚合反应性之感光性基的反应 性矽石粒子,该反应性矽石粒子之平均粒径为0.001~ 0.1m。 3.如申请专利范围第1或2项之透明硬涂薄膜,其中 该透明硬涂层之厚度为2~10m。 4.如申请专利范围第1或2项之透明硬涂薄膜,其中 相对于硬涂剂100重量份,系含有2重量份以上,20重 量份以下之该无机粒子。
地址 日本