发明名称 正型感光组成物
摘要 兹提供一种正型感光组成物,其含(A)在以光化射线或辐射照射时可产生酸且具有说明书中式(I)表示之结构之酸产生剂,(B)树脂,其具有单环或多环脂环烃结构,而且藉酸之作用分解而增加在硷性显影剂中之溶解度。
申请公布号 TWI255965 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW091122794 申请日期 2002.10.03
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 儿玉邦彦
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种正型感光组成物,其包括(A)0.1至20重量%的下 示式(I)表示之在以光化射线或辐射照射时产生酸 之酸产生剂,及(B)40至99.99重量%的树脂,其具有单环 或多环脂环烃结构,而且藉酸之作用分解而增加在 硷性显影剂中之溶解速度 其中R1至R5可为相同或不同,各表示氢原子、硝基 、卤素原子、或未取代或经取代烷基、烷氧基、 烷氧基羰基、芳基、或醯基胺基,或R1至R5至少之 二可彼此组合形成环结构;R6与R7可为相同或不同, 各表示氢原子、氰基、或未取代或经取代烷基或 芳基;Y1与Y2可为相同或不同,各表示未取代烷基、 具有取代基之烷基、醚键联基或硫化物键联基、 或未取代或经取代烯基,其条件为在Y1或Y2均为烷 基时,Y1或Y2至少之一具有羟基、醚键联基或硫化 物键联基,或各烷基含至少2个碳原子;R1至R5至少之 一及Y1或Y2至少之一可彼此组合形成环,R1至R5至少 之一及R6或R7至少之一可彼此组合形成环,至少两 个式(I)表示之结构可在R1至R7、Y1或Y2之任何位置 经键联基键联在一起;及X-表示磺酸阴离子、羧酸 阴离子、贰(烷基磺醯基)醯亚胺阴离子或参(烷基 磺醯基)甲基阴离子。 2.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其更包 括(C)硷性化合物与(D)含氟及∕或含矽界面活性剂 。 3.如申请专利范围第2项之正型感光组成物,其中硷 性化合物(C)为具有至少一个选自咪唑结构、二氮 双环结构、氢氧化结构、羧酸结构、三烷胺 结构、与苯胺结构之结构之化合物。 4.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其更包 括(F)抑制溶解低分子量化合物,其具有最多3,000之 分子量及可藉酸之作用分解而增加在硷性显影剂 中溶解度之基。 5.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中树 脂(B)更含具有内酯结构之重复单位。 6.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其更包 括(E)含羟基溶剂与无羟基溶剂之混合物。 7.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中树 脂(B)为具有至少一个选自含下示式(pI)、(pII)、( pIII)、(pIV)、(pV)、或(pVI)表示之脂环烃部份作为部 份结构之重复单位、及下示式(II-AB)表示之重复单 位 其中R11表示甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁 基、异丁基、或第二丁基;Z表示与碳原子一起形 成脂环烃基之原子基;R12至R16独立地表示C1-C4线形 或分支烷基、或脂环烃基,其条件为R12、R13与R14至 少之一或R15或R16为脂族烃基;R17至R21独立地表示氢 原子、C1-C4线形或分支烷基、或脂环烃基,其条件 为R17至R21至少之一表示脂族烃基,及R19或R21为C1-C4 线形或分支烷基、或脂环烃基;及R22至R25独立地表 示C1-C4线形或分支烷基、或脂环烃基,其条件为R22 至R25至少之一为脂环烃基,或R23与R24可彼此组合形 成环, 其中R11'与R12'独立地表示氢原子、氰基、卤素原 子、或未取代或经取代烷基;及Z'表示与连接之两 个碳原子(C-C)一起形成未取代或经取代脂环结构 之原子。 8.如申请专利范围第5项之正型感光组成物,其中具 有内酯结构之重复单位为下式(IV)表示之重复单位 : 其中R1a表示氢原子或甲基;W1表示单键、伸烷基、 醚基、硫醚基、羰基、酯基、或组合这些基至少 之二形成之基;Ra1、Rb1、Rc1、Rd1、与Re1独立地表示 氢原子或C1-C4烷基;及m与n独立地表示0至3之整数, 其条件为m与n之总和为2至6。 9.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中树 脂(B)更含包括下式(V-1)至(V-4)任何之一表示之基之 重复单位: 其中R1b至R5b独立地表示氢原子或未取代或经取代 烷基、环烷基、或烯基,或R1b至R5b之二可彼此组合 形成环。 10.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中 树脂(B)更含包括下式(VI)表示之基之重复单位: 其中A6表示单键、伸烷基、环伸烷基、醚基、硫 醚基、羰基、酯基、或组合这些基之二或更多种 而形成之基;及R6a表示氢原子、C1-C4烷基、氰基、 或卤素原子。 11.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中 树脂(B)更含包括下式(VII)表示之基之重复单位: 其中R2c至R4c独立地表示氢原子或羟基,其条件为R2c 至R4c至少之一表示羟基。 12.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中 树脂(B)更含包括下式(VIII)表示之基之重复单位: 其中Z2表示-O-或-N(R41)-,其中R41表示氢原子、羟基 、烷基、卤烷基、或-O-SO2-R42,及R42表示烷基、卤 烷基、环烷基、或莰醇残基。 13.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中Y1 与Y2各表示含至少3个碳原子之烷基。 14.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中Y1 与Y2各表示含至少4个碳原子之烷基。 15.如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中Y1 与Y2各表示丁基或羟乙基。 16如申请专利范围第1项之正型感光组成物,其中X- 表示经氟原子或含氟取代基取代之全氟烷属磺酸 阴离子或苯磺酸阴离子。
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