光学资讯记录媒体

摘要

随着光学碟片之高密度化，当光透过层之厚度薄至0.3 mm以下，便无法利用射出成形基板来形成光透过层。故，使讯号记录层之形成产生困难，而难以使光学碟片具多层构造。本发明提供一种光学碟片之制造方法，系将其一主面上具有已形成薄膜之凹凸点的树脂压模与厚度0.3mm以下之第2基板，于以凹凸点为内侧之状态下，利用放射线硬化性树脂加以贴合(S1)，并使放射线硬化性树脂硬化后，剥离树脂压模而将凹凸点形成于第2基板上(S2)，接着，于第2基板之凹凸点上形成金属膜后，于第2基板上形成资讯记录层(S3)，最后，将形成有资讯记录层之第1基板与形成有资讯记录层之第2基板，于以资讯记录层为内侧之状态下加以贴合(S4)。

主权项

1.一种光学资讯记录媒体,系于具有资讯记录层之 基板上,积层一层以上由中间层及记录层所构成之 基本层,并于其上具有光透过层,其中该光透过层 之厚度为0.3 mm以下,而该记录层系由具有沟槽或凹 凸点之放射线硬化性树脂及形成于该沟槽或该凹 凸点上之反射膜或记录膜所构成,且该中间层系由 2种材料所形成者。 2.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中 该基本层又具有保护层。 3.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中 该光透过层之厚度约为0.1 mm。 4.如申请专利范围第3项之光学资讯记录媒体,其中 该基本层之厚度为15m以上、45m以下。 5.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中 该光透过层系由放射线硬化性树脂所构成。 6.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中 该光透过层系由放射线硬化性树脂及树脂基板所 构成。 7.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中 该中间层系具有接着机能。 8.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中 该中间层系由放射线硬化性树脂所构成。 9.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其中 该保护层之铅笔硬度为B以上。 10.如申请专利范围第2项之光学资讯记录媒体,其 中该保护层系由放射线硬化性树脂所构成。 11.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其 中该保护层与该中间层之折射率大致相同。 12.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其 中该保护层及该中间层对记录再生之光束呈略为 透明之状态。 13.如申请专利范围第1项之光学资讯记录媒体,其 中该中间层对记录再生之光束呈略为透明之状态 。 图式简单说明: 第1图系说明有关本发明第1实施形态之光学碟片 制造方法的整体流程之图。 第2(a)图系显示由本发明之光学碟片制造方法所制 造之光学碟片的构造之图,第2(b)图则系用以显示 由本发明之光学碟片制造方法所制造之光学碟片 的尺寸之图。 第3(a)~(c)图系说明第1实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(1)。 第4(a)~(c)图系说明第1实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(2)。 第5(a)及(b)图系说明第1实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(3)。 第6(a)~(c)图系说明第1实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(4)。 第7图系说明第1实施形态之光学碟片制造方法的 步骤之图(5)。 第8(a)及(b)图系说明第1实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(6)。 第9图系说明有关本发明第2实施形态之光学碟片 制造方法的整体流程之图。 第10(a)~(c)图系说明第2实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(1)。 第11(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(2)。 第12(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(3)。 第13(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(4)。 第14(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(5)。 第15(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(6)。 第16(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(7)。 第17图系说明有关本发明第3实施形态之光学碟片 制造方法的整体流程之图。 第18(a)及(b)图系说明第3实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(1)。 第19(a)及(b)图系说明第3实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(2)。 第20图系说明有关本发明第4实施形态之光学碟片 制造方法的整体流程之图。 第21(a)~(c)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(1)。 第22(a)~(c)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(2)。 第23(a)~(c)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(3)。 第24(a)及(b)图系说明第4实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(4)。 第25图系说明第4实施形态之光学碟片制造方法的 步骤之图(5)。 第26(a)~(c)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(6)。 第27(a)及(b)图系说明第4实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(7)。 第28图系说明有关本发明第5实施形态之光学碟片 制造方法的整体流程之图。 第29(a)及(b)图系说明第5实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图。 第30图系说明有关本发明第6实施形态之光学碟片 制造方法的整体流程之图。 第31(a)~(c)图系说明第6实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图。 第32图系说明有关本发明第7实施形态之光学碟片 制造方法的整体流程之图。 第33(a)~(c)图系说明第7实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(1)。 第34(a)~(c)图系说明第7实施形态之光学碟片制造方 法的步骤之图(2)。 第35(a)及(b)图系说明第7实施形态之光学碟片制造 方法的步骤之图(3)。 第36(a)及(b)图系说明第8实施形态的具有多层构造 之光学碟片的构造之图。