| 主权项 |
1.一种微影投影装置,包含: 一辐射系统供提供一辐射投影光束; 一支撑结构以支撑图案化装置,该图案化装置根据 理想图案将投影光束图案化; 一基板台以保持一基板; 一投影系统以投影一图案化光束在基板之目标部 分,及 一测量系统, 其特征为: 该测量系统包含: 一挠射元件及一结构用以扩散辐射及增加投影系 统之光瞳中之辐射之光瞳填充,二者可移动进入辐 射系统及投影系统间之投影光束中;及 一感测器模组以感测横过投影系统之辐射,以测量 投影系统之波前像差。 2.如申请专利范围第1项之微影投影装置,其中该感 测器模组适于测量投影系统之波前像差。 3.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 一单一构件具有挠射元件及扩散辐射之结构之功 能。 4.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该挠射元件包含一反射光栅,其中之反射部分包含 扩散辐射之结构。 5.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该扩散辐射之结构包含随机堆叠高度之反射部分 阵列。 6.如申请专利范围第5项之微影投影装置,其中每一 反射部分包含一多层结构。 7.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该扩散辐射结构包含子解析度吸收特性。 8.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该挠射元件包含一传输光栅,及该测量系统尚包含 一镜用以导影投影光束以自背后照明光栅,其中扩 散辐射之结构包含镜中之不完美。 9.如申请专利范围第8项之微影投影装置,其中该镜 为曲面以提供聚焦效应。 10.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该挠射元件包含一传输光栅,及该测量系统尚包含 一镜用以导引投影光束自背后照明光栅,其中该镜 为曲面以提供聚焦效应及包含一结构以增加投影 系统光瞳中辐射之光瞳填充。 11.如申请专利范围第8项之微影投影装置,其中,使 用时,该镜与光栅平面成一倾斜角度以提供倾斜照 明光束。 12.如申请专利范围第1或2项之微影投影状装置,进 一步包含至少一非纳尔波幅区板,可移动进入投影 光束以聚焦到达挠射元件之光束。 13.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该增加光瞳填充之结构可适应俾测量系统之辐射 至少实际填充投影系统之光瞳。 14.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该感测器模组包含另一挠射元件及一辐射感测器 。 15.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该辐射之投影光束包含EUV辐射。 16.一种测量系统,用以测量投影系统之波前像差, 该测量系统包含: 一辐射系统以提供辐射之投影光束;及 一投影系统保持器以保持投影系统于投影光束内, 俾投影系统由投影光束所照明; 其特征为该测量系统进一步包含: 一挠射元件及一结构以增加投影系统之光瞳中辐 射之光瞳填充,二者可移动进入辐射系统与投影系 统间之投影光束中;及 一感测器模组以感测横过投影系统之辐射,以测量 投影系统之波前像差。 17.一种微影投影装置,包含: 一辐射系统以提供一辐射投影光束; 一支撑结构以支撑图案化装置,该图案化装置用以 将投影光束根据理想图案图案化; 一基板台以保持一基板; 一投影系统以投影图案化之光束于基板之目标部 分,及一测量系统以测量装置之散焦, 其特征为: 该测量系统包含一传输光栅及一镜以导引投影光 束自背后照明光栅,其中,使用时,该镜与光栅平面 成一倾斜角以提供倾斜之照明光束。 图式简单说明: 图1说明本发明一实施例之微影投影装置; 图2说明并入图1之微影投影装置之波前像差测量 系统之实施例; 图3为本发明一实施例之目标光栅之一部分详细剖 面图; 图4为本发明另一实施例之光栅模组中之目标光栅 之剖面图; 图5为本发明另一实施例之光栅模组中之目标光栅 之剖面图; 图6为本发明另一实施例中使用之具有倾斜镜之光 栅模组中目标光栅之剖面图。 |
