半导体光阻用共聚合体之颗粒增加防止方法

摘要

〔课题〕提供一种半导体光限用共聚合体之颗粒增加防止方法，以使适用于半导体制造之微细图案形成的光阻膜，由因仅有保存过程中之颗粒析出而出现相当少显影缺陷的半导体光限用共聚合体而得到。〔解决手段〕本发明之半导体光限用共聚合体之颗粒增加防止方法系含有具含极性基之重覆单位及含脂环结构之重覆单位的半导体光限用共聚合体且不含有离子性添加剂的半导体光限用共聚合体溶液，通过具有含氨基及／或氨基化合物键结之树脂的过滤器。