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经营范围
发明名称
记忆元件
摘要
本发明系提供一种能够容易且高密度地制造之构造之记忆元件。本发明之记忆元件之构造,系于2个电极1、4之间形成有记录层2、3,藉由对于此等2个电极1、4施加不同极性之电位,记录层2、3之电阻值系可逆地变化之电阻变化元件10以构成记忆胞(memory cell),而于邻接之复数之记忆胞,构成电阻变化元件10之记录层之至少一部份之层2、3系由同一层所共通地形成。
申请公布号
TW200618261
申请公布日期
2006.06.01
申请号
TW094123749
申请日期
2005.07.13
申请人
新力股份有限公司
发明人
荒谷胜久;对马朋人;成泽浩亮;大塚涉;八野英生
分类号
H01L27/10;G11C11/21
主分类号
H01L27/10
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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