正型光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明为提供一种正型光阻组成物，其为含有(A)具有酸解离性溶解抑制基，且经由酸之作用而增大硷可溶性之基础树脂成份，与(B)经由照射放射线产生酸之酸产生剂成份之正型光阻组成物，其中前述(A)成份含有于193nm下吸光度为1.0(1／μm)以下，且分散度(Mw／Mn)为1.5以下之树脂，且该正型光阻组成物为热流制程用正型光阻组成物。