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发明名称
基板处理装置
摘要
本发明提供一种基板处理装置(10),该基板处理装置对正在沿运送通路(171)以基本水平的状态运送的基板(B)进行既定的处理,沿着运送通路(171)串联设置液体回收型喷嘴部(20)和气刀(30),该液体回收型喷嘴部(20)用作向运送中的基板(B)供给既定的处理液的处理液供给器,按照可从基板(B)回收已供给的处理液的方式构成,该气刀(30)用作去除被供给处理液后的基板(B)上残留的处理液的处理液去除器,通过气流吹散基板(B)上的残留处理液。并且可以实现基板处理装置的紧密化。
申请公布号
TW200618092
申请公布日期
2006.06.01
申请号
TW094120163
申请日期
2005.06.17
申请人
未来视野股份有限公司
发明人
山口和彦;村冈佑介
分类号
H01L21/304;B08B3/02
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本
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