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发明名称
曝光装置及元件制造方法
摘要
本发明提供一种能防止液体残留于测量部上之曝光装置。曝光装置,具备:测量系统,具有形成于基板载台上面之第1图案;以及第2区域,系在上面设于含有第1图案之第1区域附近;于第2区域形成第2图案,俾使横跨第1区域与第2区域残留之液体从第1区域退离而聚集于第2区域。
申请公布号
TW200617617
申请公布日期
2006.06.01
申请号
TW094128179
申请日期
2005.08.18
申请人
尼康股份有限公司
发明人
中野胜志;萩原恒幸
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
日本
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