发明名称 曝光装置及元件制造方法
摘要 本发明提供一种能防止液体残留于测量部上之曝光装置。曝光装置,具备:测量系统,具有形成于基板载台上面之第1图案;以及第2区域,系在上面设于含有第1图案之第1区域附近;于第2区域形成第2图案,俾使横跨第1区域与第2区域残留之液体从第1区域退离而聚集于第2区域。
申请公布号 TW200617617 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW094128179 申请日期 2005.08.18
申请人 尼康股份有限公司 发明人 中野胜志;萩原恒幸
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本