发明名称 低温焙烧基板材料及使用其之多层配线基板
摘要 本发明之目的在于提供一种低温焙烧基板材料,其具有线性热膨胀系数且具有高比介电常数。又,于层叠有不同组合之玻璃-陶瓷混合层的多层配线基板,即使作为非对称之层叠构造亦可降低焙烧品之翘曲。本发明之低温焙烧基板材料,其含有SiO2–B2O3–Al2O3–硷土类金属氧化物系玻璃(以下只称为玻璃)、氧化铝、二氧化钛以及堇青石,或含有玻璃、二氧化钛以及堇青石,或含有玻璃、二氧化钛以及多铝红柱石。并且,作为多层配线基板时,调整本发明之低温焙烧基板材料之堇青石或多铝红柱石之含有量,将层间之线性热膨胀系数之差控制于0.25×10^–6/℃以内。
申请公布号 TW200616926 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW094121534 申请日期 2005.06.28
申请人 TDK股份有限公司 发明人 宫内泰治;岚友宏
分类号 C04B35/16;H01B3/02;H01B3/12;H05K3/46 主分类号 C04B35/16
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本