发明名称 半导体封装用碳黑着色剂及其制造方法
摘要 本发明系提供一种适合作为能够形成对于树脂成分之分散性良好、体积固有电阻值变高及遮光性良好之半导体封装材之半导体封装材用黑色着色剂之理想之碳黑着色剂及其制造方法;其特征在于:藉由利用过硫酸钠或过硫酸铵所造成之湿式氧化处理而生成之碳黑粒子表面之羧基之末端氢,由氨所取代,pH值成为3.0~8.0;其制造方法之特征在于:在过硫酸钠水溶液或过硫酸铵水溶液加入碳黑而进行湿式氧化处理后,对于还原盐,来进行脱盐除去,接着,加入氨水溶液,调整pH值成为4.0~12.0,进行反应,并且,在除去浆体中之异物而进行精制后,进行乾燥及粉碎。此外,最好是在对于碳黑来进行湿式氧化处理前,预先地进行乾式氧化,并且,在湿式氧化处理时,添加界面活性剂。
申请公布号 TW200617109 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW094126532 申请日期 2005.08.04
申请人 东海炭素股份有限公司 发明人 户田繁美
分类号 C09C1/56;C09C3/06;C09K3/10;H01L23/28 主分类号 C09C1/56
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本