发明名称 高分子化合物、光阻材料及图形之形成方法
摘要 一种重量平均分子量为1,000至50,000之高分子化合物,其系为各自含有1种以上下述式(1)及式(2)所示重复单位者;094120480-p01.bmp〔式中,R^1、R^3为氢原子或甲基;R^4为伸烷基;R^2为由式(R^2–1)至(R^2–7)所选出之酸不稳定基;094120480-p02.bmp(虚线为键结位置及键结方向,R^5为烷基,R^6、R^7@2为烷基,Z为可含有与键结之碳原子共同形成单环或交联环之氧原子的二价烃基,m为0或1)〕。使用本发明高分子化合物作为光阻材料,特别是作为增强化学型光阻材料之基础树脂使用时,除具有高感度、解析度、蚀刻耐性等以外,尚具有优良之基板密着性与显影液亲和性等。094120480-p01.bmp
申请公布号 TW200617037 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW094120480 申请日期 2005.06.20
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 橘诚一郎;渡边武;西恒宽
分类号 C08F220/18;C08F220/04;G03F7/039 主分类号 C08F220/18
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本
您可能感兴趣的专利