光阻用聚合物、光阻用聚合物的制造方法、光阻组成物及形成有图案的基板的制造方法

摘要

本发明提出一种光限用聚合物(Y’)，其可应用于DUV准分子雷射微影术、电子束微影术等中作为光阻树脂。光阻用聚合物(Y’)含有一种聚合物(Y)，此聚合物(Y)包括含内酯骨架之结构单位(A)、含酸脱离性基之结构单位(B)、含亲水性基之结构单位(C)，以及含有下述式(1)构造的结构单位(E)。其中，结构单位(E)的含量大于等于光阻用聚合物(Y’)之结构单位总数的0.3莫耳百分比。094131058-p01.bmp(式(1)中，L为碳数