| 主权项 |
1.一种深开挖结构监测教学装置,包含 一刚性直立壁与一透明的直立壁所构成之夹层空 间,在该夹层空间设有一隔板,在该隔板与刚性直 立壁之间可供铺设砂土使成为一深开挖土层之模 拟壁体,并于该隔板的表面预设一复数个侦测点; 一支撑单元,以复数个堆砌的形态构成一支撑面供 支撑该隔板,并可由上到下地逐一移除以模拟深开 挖过程之土层的移除;及 一监测器,供侦测该隔板于该支撑单元逐一移除后 的变形量,并将该变形量逐一记录者。 2.如申请专利范围第1项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该支撑单元系一空心盒体。 3.如申请专利范围第1项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该支撑单元系一空心盒体,且在该空 心盒体上设有可供勾取的凹部。 4.如申请专利范围第1项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该支撑单元系一空心盒体,且在该空 心盒体上设有可供勾取的孔洞。 5.如申请专利范围第1项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该监测器包括: 一垂直昇降装置; 一测距装置,供固定于该垂直昇降装置上,用以随 该垂直昇降装置上、下移动,侦测该隔板于该支撑 单元被逐一移除后的变形量; 一记录器,供记录代表该变形量的信号。 6.如申请专利范围第5项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该垂直昇降装置系同时装有复数个测 距装置,并可分别对该复数个侦测点侦测其变形量 者。 7.如申请专利范围第5项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该垂直昇降装置及该测距装置系受一 电脑控制,并可分别对该复数个侦测点侦测其变形 量者。 8.如申请专利范围第5项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该变形量系指一水平变位量。 9.如申请专利范围第5项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该测距装置系指一雷射测距仪。 10.如申请专利范围第5项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该垂直昇降装置及该测距装置系受一 电脑控制,且该电脑含有一资料库可供连续记录该 变形量。 11.如申请专利范围第5项所述之深开挖结构监测教 学装置,其中该电脑含有一显示幕供显示该变形量 的变化。 12.一种深开挖结构监测教学装置,包含 一砂箱,在该砂箱之壁体内尚利用一透明的直立壁 隔出一夹层空间,且该夹层空间之内尚设有一隔板 ,在该隔板与该壁体之间系可供铺设砂土,使成为 一深开挖土层之模拟壁体,并且在该隔板的表面上 系预设一复数个侦测点; 一支撑单元,以复数个堆砌的形态构成一支撑面供 支撑该隔板与该模拟壁体,并可由上到下地逐一移 除以模拟深开挖过程之土层的移除; 一垂直昇降装置; 一测距装置,供固定于该垂直昇降装置上,用以随 该垂直昇降装置上、下移动,侦测该隔板于该支撑 单元被逐一移除后的变形量;及 一记录器,供记录代表该变形量的信号。 13.如申请专利范围第12项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该垂直昇降装置系同时装有复数个 测距装置,并可分别对该隔板上该复数个侦测点侦 测该变形量者。 14.如申请专利范围第12项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该垂直昇降装置及该测距装置系受 一电脑控制,并可对该复数个侦测点侦测该变形量 者。 15.如申请专利范围第12项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该变形量系指一水平变位量。 16.如申请专利范围第12项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该测距装置系指一雷射测距仪。 17.如申请专利范围第12项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该垂直昇降装置及该测距装置系受 一电脑控制,且该电脑系含有一资料库可供连续记 录该变形量者。 18.如申请专利范围第12项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该电脑系含有一显示幕供显示该变 形量的变化者。 19.一种深开挖结构监测教学装置,包含 一砂箱,在该砂箱之壁体内尚利用一透明的直立壁 隔出一夹层空间,供铺设砂土使成为一深开挖土层 之模拟壁体; 一支撑单元,以复数个堆砌的形态构成一支撑面供 支撑该模拟壁体,并可由上到下地逐一移除以模拟 深开挖过程之土层的移除; 一隔板,用以分隔该支撑单元与该砂土,其表面设 有一复数个侦测点; 一垂直昇降装置; 一测距装置,供固定于该垂直昇降装置上,用以随 该垂直昇降装置上、下移动,侦测该隔板于该支撑 单元被逐一移除后的变形量;及 一记录器,供记录代表该变形量的信号。 20.如申请专利范围第19项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该垂直昇降装置系同时装有复数个 测距装置。 21.如申请专利范围第19项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该垂直昇降装置及该测距装置系受 一电脑控制,并可针对该复数个侦测点进行测距者 。 22.如申请专利范围第19项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该变形量系指一水平变位量。 23.如申请专利范围第19项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该测距装置系指一雷射测距仪。 24.如申请专利范围第19项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该垂直昇降装置及该测距装置系受 一电脑控制,且该电脑系含有一资料库可供连续记 录该变形量者。 25.如申请专利范围第19项所述之深开挖结构监测 教学装置,其中该电脑系含有一显示幕供显示该变 形量的变化者。 图式简单说明: 第1图、系本创作较佳实施例结构示意图(之一)。 第2图、系本创作较佳实施例结构示意图(之二)。 第3图、系可运用本创作较佳实施例之支撑单元立 体图。 第4图、系本创作较佳实施例结构示意图(之三)。 |
