发明名称 循环弯曲试验治具
摘要 本发明系有关一种循环弯曲试验治具。于实施循环弯曲试验时,藉由其侧边的圆弧状固定式挡板与活动式挡板,限制试验板的偏移,避免影响实验结果。
申请公布号 TWI255918 申请公布日期 2006.06.01
申请号 TW094114491 申请日期 2005.05.05
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 赖逸少;张效铨
分类号 G01N3/04;G01L1/00 主分类号 G01N3/04
代理机构 代理人 花瑞铭 高雄市前镇区中山二路7号14楼之1
主权项 1.一种循环弯曲试验治具,应用于一半导体装置之 可靠度测试,该半导体装置系接合于一测试板上, 该测试板包含两对相对之侧边,该循环弯曲试验治 具包含: 一基座; 两支撑臂,立于该基座上,该测试板可置于该两支 撑臂上以进行测试; 至少一个施压装置,用以施压该测试板;及 两挡板,具圆弧状外形,分别设于该两支撑臂上且 凹口相对。 2.依申请专利范围第1项之循环弯曲试验治具,其另 包含: 两支撑滚柱,分别设于该两支撑臂上,其转轴相互 平行并可绕各自的转轴自由转动,该测试板可置于 该两支撑滚柱上以进行测试。 3.依申请专利范围第1项之循环弯曲试验治具,其中 该施压装置包含: 一载体;及 至少一个压臂,设于该载体下,用以施压该测试板 。 4.依申请专利范围第3项之循环弯曲试验治具,其中 该压臂包含: 至少一个压滚柱,分别设于该压臂下,用以施压该 测试板。 5.依申请专利范围第2项之循环弯曲试验治具,其中 该施压装置包含: 一载体;及 至少一个压臂,设于该载体下,用以施压该测试板 。 6.依申请专利范围第5项之循环弯曲试验治具,其中 该压臂包含: 至少一个压滚柱,分别设于该压臂下,用以施压该 测试板。 7.依申请专利范围第1项之循环弯曲试验治具,其中 该两挡板系邻近该两对相对侧边之中边长较短的 一对。 8.依申请专利范围第1项之循环弯曲试验治具,其另 包含: 至少两个活动挡板,分别设于该两挡板之凹口所包 围区域的两端外,且彼此相对设置。 9.依申请专利范围第1项之循环弯曲试验治具,其中 该两挡板各自的圆弧中心分别落在该两支撑臂与 该测试板的接触位置。 10.依申请专利范围第2项之循环弯曲试验治具,其 中该两挡板各自的圆弧中心分别落在该两支撑滚 柱与该测试板的接触位置。 图式简单说明: 第1a图:为习用的循环弯曲试验治具之正面示意图 。 第1b图:为习用的循环弯曲试验治具,于测试过程中 之正面示意图。 第2图:为根据本发明之循环弯曲试验治具之正面 示意图。 第3图:为根据本发明之循环弯曲试验治具之侧面 示意图。
地址 高雄市楠梓加工出口区经三路26号