发明名称 Schichtfüllung für eine homogene Prozessverarbeitung
摘要 In Bereichen eines Halbleiterbausteins, in dem keine funktionalen Transistoren ausgebildet sind, werden Ersatztransistoren hergestellt, welche gleichmäßige Bedingungen für Ätz- und Polierverfahren zur Verfügung stellen und auf dem Halbleiterbauelement Transistoren mit gleichmäßigeren Parametern vorsehen. Die Ersatztransistoren können nicht elektrisch mit anderen Bauteilen des Halbleiterbauelements verbunden werden. Alternativ können die Ersatztransistoren mit anderen Bauteilen verbunden werden, um sie beispielsweise als Ersatztransistoren zu verwenden. Die Gates der Ersatztransistoren stellen eine homogene Gate-Materialschicht zur Verfügung, die für verbesserte Ätz-, Polier- und Lithographieverfahren auf dem Halbleiterbauelement sorgen.
申请公布号 DE102005051835(A1) 申请公布日期 2006.06.01
申请号 DE200510051835 申请日期 2005.10.28
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 POECHMUELLER, PETER
分类号 H01L27/085 主分类号 H01L27/085
代理机构 代理人
主权项
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