| 发明名称 | 具有压缩α－钽层的流体喷射装置 | ||
| 摘要 | 本发明披露了一种流体喷射装置(300)。该流体喷射装置(300)可以包括含有加热元件(306)的衬底(301)和与加热元件(306)相接触的钝化层(308，310)。流体喷射装置(300)可以进一步包括与钝化层(308，310)相接触的缓冲层(312)和与缓冲层(312)相接触并与其晶格匹配的压缩α－钽层(314)。 | ||
| 申请公布号 | CN1780738A | 申请公布日期 | 2006.05.31 |
| 申请号 | CN200480011680.1 | 申请日期 | 2004.04.29 |
| 申请人 | 惠普开发有限公司 | 发明人 | A·法塔什 |
| 分类号 | B41J2/14(2006.01) | 主分类号 | B41J2/14(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 韦欣华;段晓玲 |
| 主权项 | 1.一种流体喷射装置(300)，包括：包括加热元件(306)的衬底(301)；与加热元件(306)相接触的钝化层(308，310)；与钝化层(308，310)相接触的缓冲层(312)；和与缓冲层(312)相接触并与其晶格匹配的压缩α-钽层(314)。 | ||
| 地址 | 美国德克萨斯州 | ||