图形化膜层与障壁的形成方法

摘要

一种图形化膜层的形成方法，首先于材料层上形成图形化光阻层，其中此图形化光阻层暴露出部分之材料层。接着，移除暴露出之部分材料层，以于基板上形成图形化膜层。之后，使用胶带(或黏胶滚筒)黏附图形化光阻层，以使图形化光阻层黏附于胶带(或黏胶滚筒)上而与图形化膜层分离。其中，胶带(或黏胶滚筒)与图形化光阻层之间的黏着力大于图形化光阻层与图形化膜层之间的黏着力。由于胶带(或黏胶滚筒)仅与图形化光阻层接触，因此在移除图形化光阻层的过程中可避免对其他膜层造成损伤，因而改善制造工艺上的合格率。

主权项

1.一种图形化膜层的形成方法，其特征是至少包括：于材料层上形成图形化光阻层，该图形化光阻层暴露出部分之该材料层；移除暴露出之部分该材料层，以形成该图形化膜层；将胶带贴附于该图形化光阻层上，且该胶带与该图形化光阻层之间的黏着力大于该图形化光阻层与该图形化膜层之间的黏着力；以及移除该胶带，且该图形化光阻层黏附于该胶带上而与该图形化膜层分离。