| 发明名称 | 含有光碱产生剂与光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种含有光碱产生剂(PBG)的光致抗蚀剂组合物，更具体地说，涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包括(a)光致抗蚀剂树脂，(b)光酸产生剂，(c)有机溶剂，及(d)光碱产生剂。所述优选的光碱产生剂选自化学式1的苄氧羰基化合物或化学式2的氧-酰基肟化合物，其中，R′、R<SUB>1</SUB>至R<SUB>6</SUB>为根据说明书所定义。本发明的组合物可避免斜线图案生成及严重的I/D偏差发生。 | ||
| 申请公布号 | CN1258119C | 申请公布日期 | 2006.05.31 |
| 申请号 | CN00124850.2 | 申请日期 | 2000.09.19 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 郑载昌;金珍秀;孔根圭;白基镐 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王维玉;丁业平 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀剂组合物，其包括(a)光致抗蚀剂树脂，其包括化学式5的聚合物：<化学式5><img file="C001248500002C1.GIF" wi="1014" he="517" />(b)光酸产生剂，(c)光碱产生剂，及(d)有机溶剂。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||