| 发明名称 | 形成图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明是有关于一种形成图案的方法，一个方面是针对于一种形成图案的方法。在基板的第二层上选择性地形成一个包含聚合引发剂的第一层。藉由使用该聚合引发剂使一有机单体经历活性自由基聚合，在该第一层上选择性地形成使一个聚合物层。使用该聚合物层作为遮罩，选择性地蚀刻该第二层。 | ||
| 申请公布号 | CN1780529A | 申请公布日期 | 2006.05.31 |
| 申请号 | CN200510105603.9 | 申请日期 | 2005.09.28 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 桜井直明 |
| 分类号 | H05K3/06(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | H05K3/06(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 1、一种形成图案的方法，其特征在于其包括以下步骤：在基板的第二层上选择性地形成一个包含聚合引发剂的第一层；藉由使用所述聚合引发剂使一有机单体经历活性自由基聚合，在所述第一层上选择性地形成一个聚合物层；以及使用所述聚合物层作为遮罩，选择性地蚀刻所述第二层。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||