| 发明名称 |
Lithographic apparatus, device manufacturing method and substrate holder |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG121845(A1) |
申请公布日期 |
2006.05.26 |
| 申请号 |
SG20030007557 |
申请日期 |
2003.12.18 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
BALLEGOIJ VAN ROBERTUS NICODEMUS JACOBUS;CUIJPERS MARTINUS AGNES WILLEM;MEIJERS PIETER JOHANNES GERTRUDIS;NUNEN VAN GERARDUS PETRUS MATTHIJS;OTTENS JOOST JEROEN |
| 分类号 |
H01L21/683;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/683 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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