发明名称 纳米压印光刻机
摘要 本实用新型一种压印光刻机,涉及微纳加工技术领域,具体地说,涉及用于纳米压印光刻的设备。该机主要由螺栓,上层板,中间板,传动螺栓,传动导向杆,压块和底层板组成,用螺栓、螺母连接固定。本设备结构新颖、简单,易于加工,并采用压块、导向杆和底层板分离的结构设计,不仅实现了模具和硅片的自调平衡、达到很高的加工进度,而且降低了底层板,中间板与传动导向杆之间的位置精度要求,降低了制造成本。因此,本实用新型设备可用于纳米压印光刻的科学研究。
申请公布号 CN2783376Y 申请公布日期 2006.05.24
申请号 CN200420118110.X 申请日期 2004.11.09
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 康晓辉;范东升
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 周国城
主权项 1.一种纳米压印光刻机,由螺栓、传动螺栓、压力导向杆、三层工作板和压块组成;其特征是:在两根平行且垂直放置的螺栓上,等距水平固设三层板,三层板为:底层板、中间板和上层板,各层板两端套设于螺栓上,并由套设于螺栓上的螺母和垫圈在每层板两端上下定位;在中间板和上层板中心部设有贯通孔,中间板的贯通孔内套设有压力导向杆,压力导向杆与贯通孔内壁动接触,上层板的贯通孔内套设有传动螺栓,传动螺栓外圆周与贯通孔内壁动接触;传动螺栓上端与外接动力源相连;压力导向杆上端与传动螺栓下端可旋转式连接,压力导向杆下端设有压块。
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