发明名称 CONTACT STRUCTURE AND METHOD FOR FORMING CONTACT HOLE IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20060055754(A) 申请公布日期 2006.05.24
申请号 KR20040094900 申请日期 2004.11.19
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 PARK, JEONG JU;HWANG, JUNG HYUN
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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