| 发明名称 | 多孔质二氧化硅形成用涂布液 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种多孔质二氧化硅形成用涂布液，其特征为：较佳含有烷氧基硅烷化合物的部分水解缩合物、界面活性剂、和有机两性电解质，且其金属含量为50ppb或其以下。以往的多孔质二氧化硅形成用涂布液，一旦保存期间变长，就会有所得到的多孔质二氧化硅膜的细孔的排列规则性变低的情形。与此相反，若根据本发明的多孔质二氧化硅形成用涂布液，则可提供一种具有优良的保存稳定性的涂布液。即，所得到的多孔质二氧化硅的性能不易受到上述涂布液的保存期间的影响。因此，期望能贡献于稳定地生产一种多孔质二氧化硅，即使将其暴露于电场，也不会引起电容、电压的偏移，并且具有规则排列的均匀的细孔，可适合用作为光功能材料或电子功能材料的多孔质二氧化硅膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1777560A | 申请公布日期 | 2006.05.24 |
| 申请号 | CN200480011066.5 | 申请日期 | 2004.04.26 |
| 申请人 | 三井化学株式会社 | 发明人 | 大池俊辅;高村一夫;村上雅美;洼田武司 |
| 分类号 | C01B33/12(2006.01);C09D183/00(2006.01) | 主分类号 | C01B33/12(2006.01) |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人 | 钟晶 |
| 主权项 | 1.一种多孔质二氧化硅形成用涂布液，其特征为：含有(A)烷氧基硅烷化合物，(B)界面活性剂，以及(C)有机两性电解质；其金属含量为50ppb或其以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||