发明名称 |
半导体处理过程的控制系统和控制方法以及记录媒体 |
摘要 |
一种半导体处理过程的控制系统和控制方法以及记录媒体,其中,半导体处理过程控制系统,设置有:不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元;和求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的控制变量计算装置,对应于所述半导体处理装置和所述处理目标可存在多个,同时,所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述处理控制主体单元可以插拔的结构。 |
申请公布号 |
CN1776665A |
申请公布日期 |
2006.05.24 |
申请号 |
CN200510096693.X |
申请日期 |
2000.06.30 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
原川正一;池田诚;福田悦生 |
分类号 |
G06F17/00(2006.01);G06F19/00(2006.01);G05B19/00(2006.01) |
主分类号 |
G06F17/00(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.一种半导体处理过程控制系统,其特征是设置有:接收过程省略判断请求的跳越判断请求接收单元;具有对应于各过程的过程省略判断逻辑的多个可拆装的判断插件;检索对应于省略判断对象过程的判断插件的跳越可否判断单元;起动判断插件的判断执行单元;接收判断插件的过程省略判断结果的判断结果接收单元;和在过程省略判断结果是判断为过程可以省略时进行过程省略的跳越执行单元。 |
地址 |
日本东京都 |