用于原子层沉积的方法和设备

摘要

用不同的吹扫流量，及在某些情况下用不同的泵送容量，实施ALD循环的不同阶段。同时使反应腔保持在名义恒定的压力下。在某些情况下，吹扫流量可以利用不同的气体和/或通过不同的流动路线提供。这些操作提供ALD循环时间的改善和在消耗品使用方面提供经济的操作。在某些实施例中，利用环形节流阀提供一种机构，所述机构用于控制来自反应腔的气体流动路线中的限制下游流量的导流件。

主权项

1.一种方法，包括利用第一吹扫流量和第一泵送容量实施原子层沉积(ALD)工艺的暴露阶段，及利用大于第一吹扫流量的第二吹扫流量和大于第一泵送容量的第二泵送容量实施ALD工艺的吹扫阶段。