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发明名称 SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING WAFER
摘要
申请公布号 KR20060055775(A) 申请公布日期 2006.05.24
申请号 KR20040094922 申请日期 2004.11.19
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 PARK, KI HWAN;SONG, JONG KOOK;PARK, SANG OH;LIM, PYOUNG HO
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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