发明名称 单室牺牲阳极-水热合成制备羟基磷灰石涂层的方法
摘要 单室牺牲阳极-水热合成制备羟基磷灰石涂层的方法属于生物活性陶瓷羟基磷灰石涂层的制备技术领域。本发明流程主要包括初始涂层制备和水热处理。制备初始涂层溶液中的钙磷原子比为可控制在1-2之间,反应温度在室温到100℃之间。水热处理在高压釜中进行,水热处理温度在120-200℃之间,水热处理时间随温度升高而减小。水热溶液pH值为9-12,该方法能够在工业纯钛、Ti6Al4V合金、316L不锈钢、铜及黄铜表面制备羟基磷灰石涂层。本方法获得的初始涂层上无镁元素存在。通过调整初始涂层制备的时间,调整涂层的厚度,涂层与基体之间的界面结合力在7MPa以上。本发明工艺简单、操作方便、适用范围广、投资少。
申请公布号 CN1776010A 申请公布日期 2006.05.24
申请号 CN200510200592.2 申请日期 2005.10.10
申请人 大连理工大学 发明人 梁成浩;陈邦义;陈婉;吴波;王华
分类号 C23C16/30(2006.01);C23C16/46(2006.01);C23F13/14(2006.01) 主分类号 C23C16/30(2006.01)
代理机构 大连八方知识产权代理有限公司 代理人 卫茂才
主权项 1.单室牺牲阳极-水热合成制备羟基磷灰石涂层的方法,其特征在于,首先将试样(4)进行打磨、除油、晾干,再将牺牲阳极(3)进行加工、打磨、除油、晾干后,进行初始涂层的制备和水热处理;牺牲阳极(3)参与反应的活性表面积与试样(4)沉积面积比为1-10;初始涂层制备工艺中,作为钙源和磷源配制的反应溶液(2)中钙、磷摩尔比为1-2,制备温度为10-100℃,待溶液(2)温度达到预定值之后即将牺牲阳极(3)与试样(4)同时放入溶液(2)中,导线(1)连接,制备时间为0.5-12h;水热处理工艺中,水热处理在高压釜中进行,水热溶液体积与参与水热反应涂层的面积比为5-10cm3/cm2,水热溶液pH值为9-12,水热溶液为氨水、NaOH溶液、NaHCO3溶液、KOH溶液或、KHCO3溶液;水热处理温度为120-200℃,4-12h;水热处理时间随温度的升高而缩短;水热处理后取出试样(4),水冲洗,晾干。
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