| 发明名称 | 远距等离子体反应器的制程气体旁通装置 | ||
| 摘要 | 一种制程气体旁通装置，适用于等离子体辅助化学气相沉积腔，该远距等离子体反应器具有一入口连接至制程气体源，及一出口，该制程气体旁通装置具有：一主要导管，连接于该远距等离子体反应器的出口与沉积腔之间，将制程气体送入沉积腔；一旁通阀；一第一管件，由抗锈蚀性材料制成，连接于该旁通阀及主要导管之间；一先导气体源，提供一先导气体；及一第二管件，连接于旁通阀及该先导气体源之间。 | ||
| 申请公布号 | CN2783707Y | 申请公布日期 | 2006.05.24 |
| 申请号 | CN200520004589.9 | 申请日期 | 2005.04.04 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 罗宾·蒂纳;约翰·M·怀特;施凡彰 |
| 分类号 | H05H1/42(2006.01);C23C16/50(2006.01) | 主分类号 | H05H1/42(2006.01) |
| 代理机构 | 上海新高专利商标代理有限公司 | 代理人 | 楼仙英 |
| 主权项 | 1.一种远距等离子体反应器的制程气体旁通装置，适用于等离子体辅助化学气相沉积腔，该远距等离子体反应器具有一入口连接至制程气体源，及一出口，其特征是，具有：一主要导管，设于所述的远距等离子体反应器的出口与沉积腔之间，将制程气体送入沉积腔；一旁通阀；一第一管件，由抗锈蚀性材料制成，连接于所述的旁通阀及该主要导管之间；一先导气体源，提供一先导气体；及一第二管件，连接于旁通阀及所述的先导气体源之间。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||