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发明名称
SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING PHOTORESIST PATTERN STRUCTURE OF MULTILAYER AND FABRICATION METHOD THEREOF
摘要
申请公布号
KR20060054666(A)
申请公布日期
2006.05.23
申请号
KR20040093287
申请日期
2004.11.15
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
KIM, IN SUNG;HAH, JUNG HWAN;LEE, SUK JOO;LEE, HYUNG RAE
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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