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发明名称 Immersielithografie gebruikmakend van een specifieke contacthoek.
摘要
申请公布号 NL1030479(A1) 申请公布日期 2006.05.23
申请号 NL20051030479 申请日期 2005.11.21
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 BANG-CHEIN HO;JEN-CHIEH SHIH
分类号 G03F7/20;H01L21/02;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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