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发明名称 OVERCOATING COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY, METHODS FOR PRODUCING IT AND FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT
摘要
申请公布号 KR20060052062(A) 申请公布日期 2006.05.19
申请号 KR20050093727 申请日期 2005.10.06
申请人 CHEMAX CO., LTD. 发明人 KIM, SEONG JU
分类号 H01L21/027;(IPC1-7):G03F7711 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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