| 发明名称 |
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD, MANUFACTURING PROCESS THEREOF AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060047248(A) |
申请公布日期 |
2006.05.18 |
| 申请号 |
KR20050032612 |
申请日期 |
2005.04.20 |
| 申请人 |
JSR CORPORATION |
发明人 |
HOSAKA YUKIO;SHIMOYAMA YUUJI;SHIHO HIROSHI;KAWAHASHI NOBUO |
| 分类号 |
B24D11/00;B24B37/04;B24D3/00 |
主分类号 |
B24D11/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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