POLISHING PAD FOR ELECTROCHEMICAL MECHANICAL POLISHING,申请号KR20050043647-传众专利搜索

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发明名称	POLISHING PAD FOR ELECTROCHEMICAL MECHANICAL POLISHING
摘要
申请公布号	KR20060048076(A)	申请公布日期	2006.05.18
申请号	KR20050043647	申请日期	2005.05.24
申请人	ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC.	发明人	AMEEN JOSEPH G.;JAMES DAVID B.
分类号	B24B37/00;H01L21/304;B23H3/00;B23H5/08;B24B37/04;B24D3/28;B24D13/14;C25F7/00	主分类号	B24B37/00
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