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发明名称
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR20060048915(A)
申请公布日期
2006.05.18
申请号
KR20050069284
申请日期
2005.07.29
申请人
SEIKO EPSON CORPORATION
发明人
KATO JURI
分类号
H01L27/12;H01L21/335
主分类号
H01L27/12
代理机构
代理人
主权项
地址
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