| 发明名称 |
SACRIFICIAL FILM-FORMING COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, SACRIFICIAL FILM AND REMOVAL METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060048305(A) |
申请公布日期 |
2006.05.18 |
| 申请号 |
KR20050049180 |
申请日期 |
2005.06.09 |
| 申请人 |
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
HAMADA YOSHITAKA;OGIHARA TSUTOMU;IWABUCHI MOTOAKI;ASANO TAKESHI;UEDA TAKAFUMI |
| 分类号 |
G03F7/075;G03F7/11;C08G77/00;C08G77/14;G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/075 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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