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发明名称 Method for fabricating contact hole of semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100580794(B1) 申请公布日期 2006.05.17
申请号 KR20030101600 申请日期 2003.12.31
申请人 发明人
分类号 H01L21/28;H01L21/302;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/461;H01L21/768 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
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